【一步步学OpenGL 24】 -《阴影图技术2》

教程 24

阴影图2

http://ogldev.atspace.co.uk/

原文: http://ogldev.atspace.co.uk/www/tutorial24/tutorial24.html

CSDN完整版专栏: http://blog.csdn.net/column/details/13062.html


背景

在之前的教程中,我们学习了阴影图技术背后的基本原理,并学习了如何在纹理中渲染深度信息并通过从深度缓冲中采样将其显示在屏幕上。这个教程我们将利用这些技术将阴影本身显示在屏幕上制作我们真正想要的阴影效果。

我们已经知道阴影图是一个有两个pass通道的技术(二次渲染),第一个pass通道我们是从光源的角度来渲染场景。现在我们看在第一次pass渲染通道中Z分量的位置向量经历了哪些过程:

  1. 通常情况下顶点着色器中的顶点位置是定义在本地坐标系的;
  2. 顶点着色器将顶点位置从本地空间转换到裁剪空间并继续传往渲染管线(关于裁剪空间可在教程12中复习回顾);
  3. 光栅化阶段光栅器会进行透视分割(
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